光刻系统利用光线在晶圆上创建数十亿个微小的结构，这些结构组成在一起就成了集成电路。但芯片制造商为了让更多结构集成在单个芯片上，实现更强更快的性能，就必须要用到EUV光刻机。然而在庞大的光刻机中，由于包含了生成光、投射光的过程，同时又要精细控制光线，自然也就需要一套复杂无比的光学系统。

EUV光学系统wei一指定供应商——蔡司

提到蔡司这个名号大家都不陌生了，小到眼镜镜片，大到医学显微系统，蔡司都有涉猎。就连市面上zui为精密的EUV光刻机镜片，也都是非蔡司莫属。蔡司提供的EUV光学系统主要由两部分组成，一部分用于照明系统，一部分为投影光学系统。

在照明系统中，来自光源的极紫外光通过分面反射镜，从而在光罩上提供合适的照明度。即便是这样一个简单的反射结构，也有15000个重达1.5吨的零部件构成。在投影光学系统中，则用到了六个超精密的反射镜，用于实现nm级别的成像，单个系统就需要约20000个重达2吨的零部件。

其实这类EUV所用镜头的制造流程并不复杂，主要分为铣磨、抛光、成型和镀膜四个步骤。但由于对镜面精度和反射率的要求极高，所以制造难度要远远超过常规的镜片，所以市面上也只有蔡司能有这样的实力。如果将单个EUV反射镜的镜面大小与德国国土面积等效的话，那么其中zui大的偏差也只有0.1毫米大小。

高NA EUV所需的光学系统

然而随着高NA（NA=0.55）系统的需求开始出现，EUV光学系统又迎来了新一轮的挑战。首先是在照明系统端，蔡司在0.33NA系统上使用了可驱动的分面反射镜，从而与NXE3400及之后的系统一样，在无传输损耗的情况下，做到20%的光瞳填充比例。而未来更低的光瞳填充比例也就意味着除了提高数值孔径外，还有降低k1这种提高分辨率的方法。

高NA EUV光学系统 / 蔡司